中国政府支持的企业已开始生产用于半导体制造的浸没式深紫外线（DUV）光刻设备，这一消息导致全球半导体设备股普遍大幅下跌。市场对中国半导体设备国产化进展的担忧抑制了投资情绪。
 
彭博社于27日（当地时间）援引美国信息技术媒体《信息》报道，总部位于上海的中国企业已开始生产其自主研发的浸没式DUV光刻设备，具体公司名称尚未公开。
 
光刻设备是利用光线在半导体晶圆（芯片基础的薄圆盘）上刻制微细电路的核心设备。浸没式DUV设备通过在镜头与晶圆之间注入水来更精确地绘制电路，目前市场由荷兰的ASML主导。

 
该中国企业计划今年生产5台设备，明年生产20台。今年的生产设备将供应给中国最大的代工厂中芯国际（SMIC）、华虹半导体以及DRAM厂商长鑫存储科技（CXMT）等。
 
然而，中国制造的设备仍处于初期生产阶段，性能和可靠性尚未达到ASML产品的水平。考虑到ASML去年出货了131台浸没式DUV设备，中国企业的生产规模仍然有限。
 

市场关注的焦点并非生产规模，而是中国开始自主生产先进光刻设备的这一事实。当天，荷兰股市中ASML股价暴跌8.4%，ASM国际下跌7.3%，BE半导体下跌9.9%。在美国股市，应用材料公司下跌6.7%，拉姆研究公司下跌7.9%。
 
由于美国主导的出口管制，中国无法进口ASML的最先进极紫外（EUV）光刻设备。高性能的浸没式DUV设备同样需要荷兰政府的出口许可。因此，中国正在推动光刻设备及其他半导体核心设备的国产化进程。



※ 本报道经人工智能（AI）系统翻译与编辑。

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