三星电子和SK海力士等企业入驻的用人半导体产业园将开始建设每日供应107万2000吨工业用水的设施。政府计划首先从八达坝到用人产业园建设专用管道，供应每日31万吨的用水，并逐步扩大供应能力。

气候能源环境部于18日宣布，将启动“用人半导体产业园综合供水项目”第一阶段优先实施区的设施建设。

此次开工是因为当天第一阶段优先实施区的项目实施计划获得批准并公告。气候部表示，将根据半导体生产设施的建设进度，优先从设计和许可已完成的区域开始施工。其余区域将在相关程序完成后，逐步开工。

用人半导体产业园综合供水项目旨在为三星电子入驻的用人先进系统半导体国家产业园和SK海力士等入驻的用人半导体集群一般产业园提供工业用水。

半导体制造过程需要稳定地确保大量用水。政府计划在两个产业园的用水需求增加的时期，逐步建设总规模为107万2000吨的综合供水设施。

第一阶段将从八达坝到用人半导体产业园建设约47公里的专用管道和一个加压站，供应每日31万吨的用水。随后，第二阶段项目将进一步增加每日76万2000吨的供应能力。

气候部水资源政策局局长金浩恩表示：“我们将与相关机构合作，严格管理施工过程中的安全和质量等各项事务，并以此次开工为契机，加快项目推进，确保企业在需要时能够稳定获得足够的用水。”



※ 本报道经人工智能（AI）系统翻译与编辑。

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