美光科技宣布与英伟达合作开发“定制高带宽内存（Custom HBM）”，向三星电子和SK海力士发起挑战。超越标准规格和良率的竞争，基础芯片设计能力和代工合作模式成为关键胜负手。
 
美光于30日（当地时间）发布了2026财年第四季度业绩，并正式确认与英伟达共同开发将用于下一代AI加速器的定制HBM。美光首席执行官山杰·梅赫罗特拉（Sanjay Mehrotra）强调：“在下一代规格中，我们正在推动与英伟达从基础芯片阶段开始的定制共同设计合作。”
 

半导体企业在现有的第五代HBM（HBM3E）中，主要按照国际半导体标准组织（JEDEC）规定的标准规格预先生产产品，然后通过英伟达等主要科技客户的质量测试进行交付，形成了被动供应链。
 
然而，从第六代HBM（HBM4）开始引入的定制HBM，将根据客户的下一代图形处理器（GPU）或神经网络处理器（NPU）的电路结构和电力设计规格，从最底层的基础芯片开始进行定制设计。
 
美光的这一声明被解读为其克服HBM市场劣势的战略宣言，旨在从下一代开始实质上获得英伟达的核心供应商地位。

 
业界认为，HBM的“核心”基础芯片制造方式是关键变量。基础芯片是HBM最底层，负责垂直连接DRAM并控制通信的核心基础芯片。由于HBM4开始数据通道（I/O）宽度加倍，发热和电力效率将无法通过现有内存工艺来处理。
 
英伟达首席执行官黄仁勋（Jensen Huang）也曾强调：“下一代加速器性能的关键在于内存与逻辑芯片的紧密融合，而基础芯片正是其中的核心。”
 
三星电子正在应用自有的4纳米和2纳米先进代工工艺直接制造基础芯片。其战略是从HBM4生产开始提供一体化（Turnkey）解决方案，全面展示其作为综合半导体企业（IDM）的差异化优势。通过最小化封装和工艺间的瓶颈，三星计划在2026年HBM4量产时逆转市场格局。
 
SK海力士正在进一步加强与台积电的合作伙伴关系。SK海力士利用台积电的12纳米和5纳米超微代工工艺共同开发HBM4用基础芯片，并通过与台积电的三维先进封装技术“CoWoS”生态系统的紧密结合，提高产品良率和质量稳定性。
 
没有自有逻辑工艺的美光，计划通过与台积电的合作，供应与英伟达下一代GPU规格最优匹配的基础芯片，力争到2025年将目前约10%的全球HBM市场份额提升至20%的中期目标。
 
李钟焕，上明大学系统半导体工程系教授表示：“下一代HBM是内存从通用产品向代工型定制逻辑半导体转变的关键点，关键在于首先确保符合全球大科技公司需求规格的基础芯片设计能力和封装良率。”